磁控線是物理氣相沉積的一種。一般的濺射法可被用于制備金屬、半導體、絕緣體等多材料，且具有設備簡單、易于控制、鍍膜面積大和附著力強等優點，而上世紀 70 年代發展起來的磁控濺射法更是實現了高速、低溫、低損傷。因為是在低氣壓下進行高速濺射，必須有效地提高氣體的離化率。

磁控濺射通過在靶陰極表面引入磁場，利用磁場對帶電粒子的約束來提高等離子體密度以增加濺射率。

磁控管內部都有一磁場,在陰陽級間加負高壓(三千六百多伏),燈絲(3.6V)烘烤磁控管柵級,柵板上的電子溢出,在內置磁場與外加電場雙重作用下,電子以圓周螺旋運動打到陽級,而陽級上有很多腔室,叫諧振腔,電子打到諧振腔上就產生振蕩,直致額定頻率,后由天線